Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

Ouvert

TED (EU)

Tous les appels d’offres ouverts en Suisse

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services

Suisse

9 nov. 2026

Description

The B & R Nanotechnology Center (BRNC) at ETH Zurich invites tenders for the purchase of one (1) ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system. The system will be used for a variety of research activities of internal and external users, ranging from the generation of high-precision structures at the nanometer level to the rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training and acceptance of the system.

Le dossier

Tel que publié. Le texte de l’avis reste chez l’éditeur.

Acheteur

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services

Pays

Suisse

Régions (NUTS)

Zürich

Catégorie

Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes) · Laboratory, optical and precision equipment38000000

Date limite

9 nov. 2026

Publié

1 oct. 2026

Langues

English

Source

TED (EU) · 679334-2026

Avis complet et documents de consultationDocuments de consultation

Comment soumissionner

Procédure

Procédure ouverte - tout opérateur économique peut soumissionner

Déposez votre offre sur

https://www.simap.ch/en/redirect?context=eyJwYWdlIjoicHJvamVjdCIsInJvbGUiOm51bGwsIm9yZ0lkIjpudWxsLCJwcm9qZWN0SWQiOiJlY2E4ODIwYi03MGMzLTQ1NzAtYmQyZC00Zjg4MjU0N2ZhMDAiLCJsb3RJZCI6bnVsbCwic3Vic2NyaXB0aW9uSWQiOm51bGx9

Langue de l’offre

ENG

Soumission électronique

Autorisée

Dossier de consultation

Accessible sur demande

Comment l’attribution est décidée

Award criteria

Conditions du marché

Type de marché

Fournitures

Lieu d’exécution

CH040

Votre offre doit rester valable

180 jours

Accord-cadre

Non

Système d’acquisition dynamique

Non

Variantes

Non autorisées

Financé par l’UE

Non

Contacter l’acheteur

E-mail

publictender@ethz.ch

Téléphone

+41446321111

Adresse

Binzmühlestrasse 130, 8092, Zürich

Site web

https://www.ethz.ch

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